| 基板尺寸: 550*670*t1.1mm 、550*670*t0.7mm |
| 節(jié)拍時間: Ti->Al二層成膜時,110秒/片(Ti 1000Å/Al 4000Å) |
| 玻璃藍間距: 22mm, 20層。 |
| 靶材材質(zhì): Al 5N (一體型,不能分割) |
| Ti 4N (一體型,不能分割) |
| 靶材尺寸: Al 810mm*910mm*16mmt |
| Ti 810mm*910mm*6mmt |
| 膜厚: Al 約4000Å |
| Ti 約1000Å |
| 薄膜特性: 電阻率 Al 3.7*10-6Ωcm以下(4000Å時) |
| Ti 8.0*10-5Ωcm以下(1000Å時) |
| 面電阻分布 Al ±10%以內(nèi); Ti ±10%以內(nèi) |
| 膜厚分布: 基板內(nèi) ±5%(基板邊緣起10mm區(qū)域除外) |